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同軸光光源用一段時(shí)間后，發(fā)生圖像自動(dòng)變亮現(xiàn)象

原因分析或解決辦法

影響圖片亮度因素有：

光源控制器；視覺程序調(diào)用相機(jī)參數(shù)變亮；同軸光表面反光鏡和防塵片臟污；

解決辦法：

1.將光源控制器（模擬）旋鈕調(diào)節(jié)至*大，過一段時(shí)間后仍然變亮，排除原因；

2.查看視覺程序調(diào)用的參數(shù)，變亮前和變亮后一樣，排除原因；

3.同軸光分光鏡或防塵片表面臟污引起，變亮后，用無塵布擦去光源表面的臟污，變暗，確定原因。

同軸光為什么叫同軸光：

光源通過漫射板發(fā)散打到半透半反射分光片上，該分光片將光反射到物體上，再由物體反射到鏡頭中。由于物體反射后的光與相機(jī)處于同一個(gè)軸線上，此種方式的光源被稱之為同軸光。

分光鏡：

分光片在表面上鍍了一層特殊的膜（多層介電膜真空蒸鍍），使得入射光可以反射一半透射一半，從而把一束光分為反射的一束，和透射的一束，形成兩束光。

CNC車間機(jī)床加工，存在大量粉塵，當(dāng)分光鏡上表面布上灰塵之后，反射到產(chǎn)品表面的光束變多，導(dǎo)致反射到鏡頭的光束增多造成圖像變亮。

防塵片：

遮擋來自空氣中的臟污粉塵，避免粉塵掉落到分光鏡上引起發(fā)光不均勻情況；

1.反光鏡的工藝：

多層介電膜通過真空蒸鍍形成

介電膜：用濺射法在基片上沉積的以金屬鉭為基的介電薄膜材料。

真空蒸鍍：

蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核、長大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。將基片放入真空室內(nèi)，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團(tuán)）。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運(yùn)動(dòng)飛速傳送至基片，到達(dá)基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴(kuò)散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團(tuán)，有的可能在表面短時(shí)停留后又蒸發(fā)。粒子簇團(tuán)不斷地與擴(kuò)散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過程反復(fù)進(jìn)行，當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過某一臨界值時(shí)就變?yōu)榉€(wěn)定的核，再繼續(xù)吸附擴(kuò)散粒子而逐步長大，*終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并，形成連續(xù)薄膜。