半導體用氮氣烤箱循環(huán)風(fēng)道性能和加熱的結構設置有別于普通烘箱，設備裝有氮氣裝置，有進(jìn)口氮氣流量計，能更準確的控制氮氣的流量進(jìn)入到箱體內，并且配有快速插拔充氮氣接口，方便充氮氣并控制氮氣流量，使每一分氮氣都能得到充分的使用。防止其受潮氧化，更好的保護產(chǎn)品。

半導體用氮氣烤箱箱體規格：

內尺寸：450(長(cháng))×450(寬)×450(高)mm；（雙箱式,單箱獨立控制）

外尺寸約：以實(shí)物為準；

單箱內分六層，底起50mm層，以上平分，配網(wǎng)板六個(gè)，可活動(dòng)抽出；

門(mén)上有玻璃視窗W250*H250mm；

半導體用氮氣烤箱內材質(zhì)為：304#不銹鋼工業(yè)板,厚5.0mm，加強處理，抽真空不變形；

外材質(zhì)為：冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理；

保溫材質(zhì)為：耐高溫巖棉，保溫效果好；

密封材質(zhì)為：耐高溫硅膠條；

安裝活動(dòng)腳輪及可調固定腳座，可任意推動(dòng)；

箱體結構為連體式，上部分為產(chǎn)品箱，下部分真空泵安裝處,右側控制面板；

半導體用氮氣烤箱特點(diǎn):

迅速脫氧：該箱內膽采用不銹鋼制造，箱壁接縫全部采用氬弧焊焊接，密封性能，能快速脫氧；

氮氣功能：可充入氮氣、氬氣等惰性氣體，實(shí)現氣氛、無(wú)氧、降溫之功能；

高效率：穩定和快速的升溫性能，有助于提高產(chǎn)品質(zhì)量和效率；

半導體用氮氣烤箱保溫節能：箱體與工作室之間填充高密度纖維棉作保溫材料，有效保溫節能；

密封性好：箱門(mén)與工作室外框設有耐高溫無(wú)塵密封條和壓緊裝置,有效地保證了箱體的密封性能；

置物架：工作室內設計可抽取的載物網(wǎng)板；

美觀(guān)簡(jiǎn)潔：設備外形美觀(guān)，操作簡(jiǎn)便，控溫靈敏準確；

寬泛的溫度范圍選擇。

半導體用氮氣烤箱控溫系統：

溫度控制為PID方式觸摸屏儀表(TEMI580)，單點(diǎn)式或程序式控溫，可自動(dòng)演算，PV/SV顯示，點(diǎn)觸設定；帶有記憶功能（如溫度、時(shí)間）,記憶每次使用試驗過(guò)程溫度及時(shí)間.數保存長(cháng)時(shí)間為6個(gè)月,帶有232電腦接口

計時(shí)器功能：儀表自帶（可設定小時(shí)、分鐘），溫到計時(shí)，時(shí)間到停止加熱，報警提示；

半導體用氮氣烤箱采用儀表顯示箱內上、中、下三個(gè)中心點(diǎn)溫度，只顯示，不保存記錄；

感溫線(xiàn)（PT100）型；

輸出為3-32V；

電流控制器為：固態(tài)繼電器SSR無(wú)接點(diǎn)；

升溫速率:100℃約15分鐘，控制儀表到溫后，需恒溫15-20分鐘，內部溫度才能達到；

半導體用氮氣烤箱采用三面加熱，熱輻射對流方式，發(fā)熱管安裝于內箱外壁左、右、底三面；

加熱元件為：不銹鋼高溫發(fā)熱管；

溫度范圍：常溫+30至250℃之間,常用溫度分別為90度、120度、180度；

控制精度±2.0℃；

半導體用氮氣烤箱顯示精度0.1℃；

箱內溫度偏差分布均勻度±5℃.(空箱測試,高層與低層偏差)

真空系統

本機采用高密度性的硅膠密封條，進(jìn)行門(mén)口處密封；

真空度為數顯示，采用SMC壓力表顯示即時(shí)真空度,相對壓力顯示；

半導體用氮氣烤箱機臺真空度范圍：0KPa至-100.0KPa，(真空度為：≤265Pa)；

真空控制方式：自動(dòng)控制，達到真空度停止抽真空，低于下限時(shí)自動(dòng)啟動(dòng)，以此循環(huán)工作，恒溫時(shí)間完成后，停止工作；手動(dòng)解壓充空氣或充氮氣；

真空度在產(chǎn)品烘烤過(guò)程中的變化，只顯示觀(guān)察，不保存數據；

半導體用氮氣烤箱配置4升直連式真空泵，功率550W，電壓220V.

充氮氣裝置（可手動(dòng)充空氣解壓）

調壓閥：控制氮氣壓力，正常使用下氮氣壓力調為2公斤左右

流量計：控制氮氣進(jìn)入箱內的大小，量程為2L/min-10Lmin；

氮氣管道進(jìn)入到箱內正后面，外配2米長(cháng)10mm氮氣軟管；

氮氣需貴公司提供。

半導體用氮氣烤箱保護系統：

超溫保護系統：當溫度失控時(shí)，超過(guò)超溫保護設定溫度時(shí)，自動(dòng)停止加熱供電，從而保護產(chǎn)品及機器的安全；

電路保護系統：接地保護、缺相保護、快速保險絲。

半導體用氮氣烤箱機器電源：

電壓 380V 三相五線(xiàn)

電流 23A

單箱加熱功率 6KW

總功率 15KW

半導體用氮氣烤箱詳細說(shuō)明：

使用電源：AC 380V 50HZ

使用溫度：室溫--250度

內膽尺寸：深500*寬600*高750(mm)

半導體用氮氣烤箱外形尺寸：深750*寬1150*高1350(mm)

內膽材料：不銹鋼板

外壁材料：A3冷軋鋼板

充氮裝置：氣體減壓閥，惰性氣體流量控制，通入流出箱內管道

半導體用氮氣烤箱箱內分層：3層，標配2個(gè)可抽出式載物隔板

控溫方式：PID智能數顯溫控，按鍵操作，LED數字顯示，設定溫度和實(shí)際溫度雙溫度顯示

控溫均勻：±3℃

加熱元件：電加熱管，使用壽命長(cháng)達4萬(wàn)小時(shí)以上

半導體用氮氣烤箱加熱功率：4 KW

鼓風(fēng)電機：耐高溫長(cháng)軸電機配離心風(fēng)輪，安裝在箱體左側

送風(fēng)方式：箱內兩側雙風(fēng)道出風(fēng)，左側出風(fēng)，右側水平回風(fēng)內循環(huán)

定時(shí)裝置：  1分-99.99小時(shí)恒溫定時(shí)，可預設烘烤時(shí)間，時(shí)間到自動(dòng)切斷加熱并聲光報警

半導體用氮氣烤箱安全裝置：  漏電，短路，過(guò)載保護；鼓風(fēng)電機過(guò)載缺相保護

出廠(chǎng)配件：標配不銹鋼網(wǎng)版2層

選裝配件：可增減層數 2.承重型擱板；烘盤(pán) 3.程序控溫 4.固定滑輪 5.多通道溫度記錄儀6.計算機遠程監控 7.彩屏觸摸控制