NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：先進(jìn)的全自動濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過使用RF射頻開關(guān)，RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點：

·         不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

·         70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

·         13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

·         晶振夾具具有的         帶觀察視窗的腔門易于上下載片

·         基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

·         帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制

·         完全的安全聯(lián)鎖

選配項：

·         向上、向下或側(cè)面濺射

·         RF、DC以及脈沖DC濺射

·         共濺射、反應(yīng)濺射

·         組合濺射

·         RF或DC偏壓（1000V）

·         樣品臺可加熱到700°C

·         膜厚監(jiān)測儀

·         基片的RF射頻等離子清洗

·         預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應(yīng)用：

·         晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

·         光學(xué)以及ITO涂覆

·         帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

·         帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

型號：

·         NSC-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統(tǒng)

·         NSC-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)

·         NSC-3000：PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)

·         NSC-1000：半自動控制的臺式系統(tǒng)

(以下為雙系統(tǒng)型號)

·         NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)

·         NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)

·         NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)

我公司主要經(jīng)營各類真空鍍膜微納加工設(shè)備，包括薄膜沉積、刻蝕及清洗去膠設(shè)備等（ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗，晶圓清洗機，PA-MOCVD）