曲面曝光顯影

曲面曝光顯影真正的精度和技術(shù)體現(xiàn)曝光顯影：3D件外觀裝飾重要工藝，3D遮蔽可以移印，貼合，噴砂曝光顯影廠家，曲面角度小還是可以做貼合工藝；

曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì)：解決曲面工件(包含面曲)印刷難題;圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高;霧化噴涂確保厚度均性，提高致密性，降低油墨厚度;采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)，良率較高;-寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯;較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率。開(kāi)始采用曝光與顯影的方式來(lái)定義組裝區(qū)，曝光后的工件是否顯影充分，關(guān)系到產(chǎn)品刻蝕時(shí)一致性和穩(wěn)定性.相比絲印移印曝光顯影的精度更高線條更細(xì)

    曝光后開(kāi)始蝕刻，蝕刻一種將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果